申报条件：

（一）申报单位是在苏州工业园区依法登记注册至少满一个会计年度（2018年1月1日前注册）、具有独立法人资格的企业，税务登记和主要工作场所均在园区，三年内无重大违法记录，无不良信用记录；

（二）申报单位是以集成电路设计为主营业务，研发人员10人以上，同时符合《关于软件和集成电路产业企业所得税优惠政策有关问题的通知》（财税〔2016〕49号）第三条关于集成电路设计企业的标准。

（三）申报单位所研发的芯片产品应具有较高的技术水平，市场竞争力强，具备产业化前景。申请流片补贴的产品应具有自主知识产权，流片费用包括产品首次MPW费用或首次工程流片费用（包括掩膜版、流片加工费和相关测试验证费用）。

（四）申报单位流片及IP购买时间于2018年1月1日至2018年12月31日。流片及IP购买费用已在税务部门备案并享受科技部门研发后补助政策的，不再重复享受流片、IP购买补贴。集成电路流片补贴与园区纳米产业政策MEMS流片补贴按从高不重复原则享受。

企业收益：

按照流片加工费的50%补贴，最高不超过300万